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Grupo de ZEIT

Ciudad:chengdu

Provincia / Estado:sichuan

País/Región:china

Persona de contacto:MsTyra

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6 × 6 × 0,25 pulgadas de sustrato de cuarzo Photomask para el proceso de fotolitografía

Preguntar último precio

Número de modelo :6025

Lugar de origen :Chengdu, P. R. CHINA

Cantidad mínima de pedido :PC 1

Términos de pago :T/T

Capacidad de suministro :Caso por caso

El tiempo de entrega :Caso por caso

detalles del empaque :caja de madera

Material :Cuarzo

Condiciones de envío :FEDEX, DHL, EMS, TNT, etc.

Utilizado en :proceso de fotolitografía

Tamaño :6 pulgadas × 6 pulgadas × 0,25 pulgadas

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Ver descripción del producto

Sustrato de cuarzo Photomask de 6 pulgadas × 6 pulgadas × 0,25 pulgadas para uso con chips

Aplicaciones

Los campos del proceso de fotolitografía, como la fabricación de chips de circuitos integrados, FPD (Pantalla plana),

MEMS (Sistemas Micro Electro Mecánicos), etc.

Principio de funcionamiento

Máscara es una máscara maestra gráfica comúnmente utilizada en fotolitografía de micro-nano fabricación.La estructura gráfica

se forma sobre un sustrato transparente por una fotomáscara opaca, y luego la información gráfica se transfiere a la

sustrato del producto a través de un proceso de exposición.

Características

Sustrato Photomask para chip usar

Modelo / Material	Tamaño	Capacidad de procesamiento
6025 / Cuarzo	6 pulgadas × 6 pulgadas × 0,25 pulgadas	Rectificado, Pulido, Cromado, Pegado

Flujo del proceso

→ Detección de materias primas;

→ Rectificado basto;

→ Pulido en bruto;

→ Limpieza de máscaras;

→ Inspección de rendimiento de materias primas;

→ Plateado por cromo;

→ Pruebas de rendimiento de mascarillas;

→ Recubrimiento fotorresistente;

→ Embalaje;

→ Transporte.

Nuestras ventajas

Somos fabricante.

Proceso maduro.

Responder dentro de las 24 horas hábiles.

Nuestra Certificación ISO

Partes de nuestras patentes

Partes de nuestros premios y calificaciones de I + D

Etiquetas de productos:

photolithography process

3d lithography

electron beam lithography

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