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Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd

Ciudad:hefei

Provincia / Estado:anhui

País/Región:china

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China Horno de muffle programable con atmósfera controlada para tratamiento térmico 1000 C wholesale

Horno de muffle programable con atmósfera controlada para tratamiento térmico 1000 C

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Horno de mufla programable de atmósfera controlada para tratamiento térmico 1000°C

Descripción general del producto

El horno de atmósfera de vacío HWF160-10NH de procesamiento de atmósfera controlada es un horno de mantenimiento eléctrico de grado industrial diseñado para procesos de tratamiento térmico de precisión de hasta 1000°C. Certificado según las normas ISO, este horno vertical ofrece un control versátil de la atmósfera, incluidos entornos de vacío, nitrógeno e hidrógeno.

Atributos clave

Rango de aplicaciones	Industrial
Tipo	Horno de mantenimiento eléctrico
Uso	Sinterización de cerámica
Dimensiones efectivas de la cámara	500×500×650 mm (Ancho×Alto×Profundidad)
Opciones de atmósfera	Vacío/Nitrógeno/Hidrógeno
Certificación	ISO

Horno de muffle programable con atmósfera controlada para tratamiento térmico 1000 C

Aplicaciones principales

Proceso de soldadura para piezas metálicas y paquetes HTCC
Operaciones de descarburación, recocido y temple
Procesos de descomposición térmica y endurecimiento
Aplicaciones de sinterización de cerámica

Especificaciones técnicas

Rango de temperatura: 900°C (nominal), 1000°C (máx.)

Control de temperatura: ±1°C con controlador PID

Método de calentamiento: Placa calefactora prefabricada con cable de resistencia

Material de la mufla: SUS 310S

Sistema de refrigeración: Refrigeración por aire con soplador

Valor máximo de vacío: ≤10Pa

Requisitos de energía: 40kW máx., ≤25kW típico

Dimensiones: 1650×1950×2000 mm (Ancho×Alto×Profundidad)

Peso: 1500 kg

Contenido de entrega estándar

Artículo	Detalles	Cantidad
Componentes básicos	Ensamblaje del horno	1 JUEGO
Documentos técnicos	Instrucciones y especificaciones	1 JUEGO
Elemento calefactor	Calentador de fibra cerámica FEC	1 JUEGO
Sistema de control	Pantalla táctil, PLC, controlador de temperatura	1 JUEGO cada uno
Sistema de vacío	Ensamblaje completo	1 JUEGO

Requisitos de la instalación

Entorno: 0-40°C, ≤80% de humedad, sin gases corrosivos
Suministro de gas: N2 (99,999% de pureza), H2 con requisitos de presión especificados
Energía: >55kVA, trifásico 380V, 50Hz con puesta a tierra adecuada
Espacio: Área mínima de 7,5 m² con espacio libre de 3000×2500×3000 mm
Suelo: Superficie horizontal con capacidad de carga >500 kg/m²
Agua de refrigeración: Suministro limpio a una presión de 0,1-0,3 MPa

Características de seguridad

Sistema de alarma integral para el control de temperatura, presión y vacío
Sistema de encendido de H2 para una gestión segura del escape
Control de temperatura multipunto (3 puntos de control, 1 punto de medición)
Temperatura de la superficie mantenida por debajo de 40°C durante el funcionamiento

Carro de la investigación 0

Horno de muffle programable con atmósfera controlada para tratamiento térmico 1000 C

Horno de caja de alta temperatura

Fuego de elevación

Estufa del aire caliente

horno de caja de la atmósfera

horno de muffle al vacío

horno de tubo

horno rotatorio

Incinerador de residuos de gas

Horno de recocido continuo

Horno eléctrico para muffles

horno de deshidratación

Fuego de cinta transportadora

Partes de hornos

Horno de muffle programable con atmósfera controlada para tratamiento térmico 1000 C