Horno de tubo partido de alta temperatura de acero del horno de laboratorio PECVD con el tubo del cuarzo

Alto horno de tubo partido del laboratorio PECVD de la temperatura con el tubo del cuarzo
 
Introducción inteligente de PECVD:
El sistema de PECVD se diseña para disminuir la temperatura de la reacción del CVD tradicional. Instaló el equipo de la inducción del RF delante del CVD tradicional para ionizar reaccionar el gas, así que se genera el plasma. La alta actividad del plasma es reacción es acelerado debido a la alta actividad del plasma. Así pues, este sistema se llama PECVD.
Este modelo es el producto más nuevo, sintetizó las ventajas de la mayoría de los sistemas del tubo PECVD, y añadió una zona de precalentamiento en el frente del sistema de PECVD. Las pruebas mostraron que la velocidad de la deposición es más rápida, la calidad de la película son mejores, los agujeros son menos, y no se agrietarán. El sistema de control inteligente completamente automático de AISO es diseñado independientemente por nuestra compañía, es más conveniente actuar y su función es más potente.
Gama ancha del uso: película de película metálica, de cerámica, película compuesta, el crecimiento continuo de diversas películas. Fácil aumentar la función, puede ampliar el grabado de pistas de la limpieza del plasma y otras funciones
 
 
Característica principal:

• Alta tarifa de deposición de la película: La tecnología del resplandor del RF, aumentando grandemente el índice de deposición de la película, la tarifa de deposición puede alcanzar 10Å/S
   
• Alta uniformidad del área: La tecnología de alimentación de múltiples puntos avanzada del RF, la distribución especial de la trayectoria del gas, y la tecnología de calefacción, los etc., hacen el alcance el 8% del índice de la uniformidad de la película
   
• Alta consistencia: usando el concepto de diseño avanzado de la industria del semiconductor, la desviación entre los substratos de una deposición es menos del 2%
   
• Alta estabilidad de proceso: El equipo altamente estable asegura un proceso continuo y estable

 
 
Repuestos del estándar:

• Tapar las PC del tubo 4
• PC del tubo de horno 1
• PC de la bomba de vacío 1
• Sistemas del reborde 2 del sellado al vacío
• PC del indicador de vacío 1
• Bomba de la entrega y de vacío del gas
• Equipo del plasma del RF

 
Repuestos opcionales:
 

• Reborde de la liberación rápida, reborde de tres vías
• 7 pedregal del tacto de la pulgada HD

 
 
 
Especificación estándar partida del horno de tubo del laboratorio PECVD:
 

 
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