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El semiconductor Ion Implanted Tungsten Molybdenum Precision de la fuente parte a Ion Source Assembly
La implantación de ion es un proceso común para el doping y la modificación del semiconductor. Ionice las impurezas que se doparán en electrones, después acelere y choque con la oblea de semiconductor. El tungsteno y el molibdeno se utilizan generalmente para hacer piezas de la implantación de ion.
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Industrias aplicables: implantación de ion, fuente de la luz eléctrica, calentador de alta temperatura, electrodo, etc
El tungsteno, el molibdeno y sus aleaciones tienen materiales electrónicos convertidos debido a su buena conductividad termal, conducción eléctrica, coeficiente bajo de extensión termal, fuerza da alta temperatura, presión de vapor baja y otras características.
Es un material importante para la fabricación del equipo de poder, la industria del tratamiento de materiales del metal, la industria fabril de cristal, los usos estructurales de la fabricación de las piezas del horno de alta temperatura, aeroespaciales e industriales.
Uso: Recambios del implanter del ion del molibdeno para el semiconductor
1. La mayoría de las piezas del molibdeno para la implantación de ion se utilizan en la industria del semiconductor;
piezas del molibdeno de la producción 2.We para la implantación de ion con alta densidad, pureza y exactitud y estructura interna homogénea;
3. Nuestras piezas del molibdeno para la implantación de ion son convenientes para el implanter actual del haz moderado y el implanter actual del haz fuerte;
4. las piezas del molibdeno para la implantación de ion se hacen según el dibujo del cliente.