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Molibdeno Ion Injection Parts de la alta precisión de ASTM B387 para los semiconductores
En el campo de semiconductores, IC (circuito integrado), también conocido como microprocesador, ocupa una posición importante.
Una técnica dominante en la fabricación del microprocesador se llama la implantación de ion (doping), que apunta obtener propiedades específicas de la conductividad eléctrica.
Las fuentes de ion usadas para emitir haces iónicos se hacen de los materiales del tungsteno y del molibdeno y se entregan a menudo en un estado pulido.
Nuestra placa pulida del tungsteno y del molibdeno está de calidad estable y del volumen de ventas grande, que es uno de los productos de la base de la compañía.
Capacidad de la detección
Aquí podemos probar densidad, dureza, aspereza de superficie, tamaño de grano, resistencia a la tensión y otros parámetros de nuestros productos. Con equipos especiales podemos conseguir exacto la densidad total de los crisoles grandes, que pueden reflejar el funcionamiento real del crisol. La fábrica ocultada posible de crisol tal como porosidad, la escoria, las grietas y otras lesiones son examinadas doble estrictamente con la corriente de Foucault y los equipos ultrasónicos por nosotros para asegurar la calidad de nuestro sinterizados.