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El calentador químico en línea realiza un calentamiento de fluidos de proceso de semiconductores inigualable
¡Ahora caliente los fluidos de proceso de semiconductores hasta 210°C!
Calentamiento más rápido:Tamaños de cámara de calentador individual de hasta 18kW.
Instalación rápida:Conexiones de fontanería personalizadas
Larga vida útil del calentador para reducir el costo de propiedad (COO):
El sistema patentado de purga de gas del calentador elimina continuamente cualquier permeación química y garantiza una larga vida útil del elemento.
Larga vida útil del calentador y funcionamiento limpio:El sistema patentado de purga de gas del calentador elimina continuamente la permeación química y garantiza una vida útil excepcionalmente larga.Este sistema también protege contra cualquier posible contaminación iónica de la química.
Construcción robusta:La cámara de paredes gruesas brinda una larga vida útil en las aplicaciones de alta temperatura más duras.
Rendimiento excepcionalmente limpio:La cubierta gruesa de fluoropolímero minimiza la permeación.El control de la purga de elementos minimiza el potencial de contaminación iónica.El montaje y las pruebas en salas limpias garantizan los más altos estándares de fabricación.
Excelente compatibilidad química:Todas las piezas mojadas con fluoropolímero son compatibles con prácticamente cualquier producto químico.
Excelente estabilidad de temperatura:El diseño de baja densidad de vatios permite un control preciso de la temperatura del proceso.
Las aplicaciones incluyen:
SC1: hidróxido de amonio (NH4OH) y peróxido de hidrógeno (H2O2)
SC2: ácido clorhídrico (HCl) y peróxido de hidrógeno Proceso de grabado con óxido tamponado (BOE): ácido fluorhídrico (HF) y fluoruro de amonio (NH4F)
Grabado/tira de nitruro: ácido fosfórico (H3PO4)Varios ácidos como:
Clorhídrico (HCl)
Fluorhídrico (HF)
Acético (C2H4O2)
Nítrico (HNO3)
Sulfúrico (H2SO4)
Ácido sulfúrico y peróxido de hidrógeno
Ácido sulfúrico y ozono (O3)
Ácido fluorhídrico y glicol (C2H6O2)
Hidróxido de potasio (KOH)
Hidróxido de sodio (NaOH)
Níquel químico Cobre químico Oro químico Agua desionizada
Algunos disolventes (consulte con la fábrica)
Beneficios y especificaciones
Calentamiento inigualable de fluidos de proceso de semiconductores hasta 210 °C.
El sistema patentado de purga de gas del calentador garantiza una vida útil prolongada del elemento y un costo de propiedad reducido.
La cámara de paredes gruesas brinda una larga vida útil en las aplicaciones de alta temperatura más duras.
El control de la purga de elementos minimiza el potencial de contaminación iónica.El montaje y las pruebas en salas limpias garantizan los más altos estándares de fabricación.
Todas las piezas húmedas de fluoropolímero ofrecen una excelente compatibilidad con prácticamente cualquier producto químico.
El diseño de baja densidad de vatios permite un control preciso y estable de la temperatura del proceso.
Soportes de montaje de PVDF para alta temperatura (modelo para alta temperatura)
Opciones:
Configuración montada horizontalmente
Serpentines de enfriamiento integrales
RTD de 100 ohmios o proceso tipo “J”, “K” o “E” y
termopares de elemento
Calentadores de baja densidad de vatios para aplicaciones especiales
Especificaciones:
Servicio:
•Calentador químico en línea con todos los fluoropolímeros húmedos
superficies para prácticamente cualquier aplicación de química húmeda.
Rango de temperatura: Hasta 210°C.
Presión máxima de trabajo:
•100 PSIG (7 Bar) a 25oC
•43 PSIG (. Bar) a 180oC
Tamaños de calentador: 1,000 watts hasta 18,000 watts
Voltajes de calentador disponibles:
•200 a 600 voltios, monofásico o trifásico (12kW y
más grande requiere trifásico).
Densidad de vatios: 10 vatios por pulgada cuadrada (1,5 W/cm2)
Conexiones de fluido disponibles:
•1⁄4” (6 mm) a 1” (25 mm) acampanado
•1⁄2” (12 mm) a 1” (25 mm) Super 300 Tipo Pillar®•
Otras conexiones disponibles, consulte con la fábrica
Certificaciones de terceros: CE, UL, Semi S2 y S3
Purga de elementos:
•Pequeña cantidad de aire limpio y seco (CDA) o N2flujos de gas
entre el elemento de tierra de metal y la cubierta de PTFE
Aplicaciones
Procesos húmedos de semiconductores
Esterilización/Limpieza
Limpieza de obleas solares/fotovoltaicas
Sensor de nivel de líquido
Opciones de cable a tierra
Termopar de sobretemperatura
Termopar de proceso
Opciones
Corte térmico
Termopares
Sensor de nivel de líquido de fibra óptica
Sensores RTD
Válvula de alivio de presión
Modelo |
LP1 |
LP7 |
Material húmedo |
PVDF/PFA |
PVDF/PFA |
Material de la carcasa |
Tubo |
Tubo |
Temperatura máxima |
95°C |
95°C |
Presión |
60 psi a 95°C |
60 psi a 95°C |
Energía* |
1-15 kilovatios |
1-18 kilovatios |
Precisión |
± 0,1oC |
± 0,1oC |
Voltajes** |
200-480 VCA, monofásico y trifásico |
200-600 VCA, monofásico y trifásico |
Caudal |
0,5-32 gpm (1,9-122 l/min) |
0,5-32 gpm (1,9-122 l/min) |
Beneficios |
Altura variable |
Mayor caudal, kW |