Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
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El horno de deposición al vacío se utiliza para la preparación de materiales compuestos carbono-carbono,y el horno de deposición se utiliza principalmente para la preparación de recubrimiento pirolítico de carbono en la superficie del grafito, dispositivos semiconductores y materiales de limpieza resistentes al calor.
Aplicación:
Grafito, dispositivos semiconductores, materiales de limpieza resistentes al calor.
1Parámetros básicos:
1) Temperatura de diseño: 1250°C/1650°C/1800°C/2200°C
2) Temperatura común: 900~1200°C
3) Grado de vacío: < 50 Pa
4) Tasa de aumento de la presión: 6,67 pA/h (o 150 Pa/24h) en el estado frío del horno vacío
5) Modo de calefacción: calefacción por resistencia al grafito o calefacción por inducción, control de temperatura independiente, buena uniformidad de temperatura
6) Medio atmosférico: vacío /CH4/C3H6/H2/N2/Ar
7) Modo de control del gas: control del caudalímetro de masa, trayectoria de gas multicanal, campo de flujo uniforme, sin ángulo muerto de deposición, buen efecto de deposición;
Sistema de tratamiento de gases de escape de varias etapas y eficiente, respetuoso con el medio ambiente, fácil de limpiar;
8) Tipo de horno: estructura cuadrada, redonda, vertical u horizontal (diseño no estándar), cámara de deposición completamente cerrada, buen efecto de sellado, fuerte capacidad antipolución;
9) Modo de refrigeración del horno: refrigeración del agua de la cáscara del horno, se puede seleccionar un sistema de refrigeración rápida de circulación externa, tiempo de refrigeración corto, alta eficiencia de producción;
2. Estructura del horno de deposición al vacío:
Forma de la estructura: descarga horizontal - lateral, vertical - hacia arriba/hacia abajo
Modo de bloqueo de la puerta del horno: manual/automático
Material de la cáscara del horno: acero inoxidable interior/todo acero inoxidable
Material aislante: fieltro de carbono/fieltro de grafito/fieltro curado de fibra de carbono
Material del calentador y de las muffles: grafito/CFC
Instrumento infrarrojo: colorímetro único/colorímetro doble
Fuente de alimentación: KGPS/IGBT ((sólo adecuado para calefacción de media frecuencia)
Especificación del producto:
| Parámetro / Número de modelo | Se aplicará el procedimiento siguiente: | Se aplicará el procedimiento siguiente: | Se aplicará el procedimiento siguiente: | Se aplicará el procedimiento siguiente: | Se aplicará el procedimiento siguiente: | Se trata de un sistema de control de las emisiones de gases de escape. | Se trata de un sistema de control de las emisiones. | Se aplicará el procedimiento siguiente: |
|
Tamaño de la zona de trabajo Frm × H (mm) |
300 × 500 | 500 × 500 | 600 × 800 | 600×1200 | 800×1200 | 1100 × 2000 | 1200×1800 | 1500 × 2000 |
|
Temperatura más alta (°C) |
2300 | 2300 | 2300 | 2300 | 2300 | 2300 | 2300 | 2300 |
| Uniformidad de la temperatura ((°C) | ± 5 | ± 5 | Se aplican las siguientes medidas:5 | ± 7,5/± 10 | ± 7,5/± 10 | Se aplicarán las siguientes medidas: | Se aplicarán las siguientes medidas: | Se aplicarán las siguientes medidas: |
| Grado de vacío límite ((Pa) | 1 a 100 | 1 a 100 | 1 a 100 | 1 a 100 | 1 a 100 | 1 a 100 | 1 a 100 | 1 a 100 |
|
Tasa de aumento de la presión (Pa/h) |
0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
| Método de calentamiento |
Resistencia/inducción |
Resistencia/inducción | Resistencia/inducción | Resistencia/inducción | Resistencia/inducción | Resistencia/inducción | Resistencia/inducción | Resistencia/inducción |