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Shenzhen HongJie Water Technology Co., Ltd.

Ciudad:shenzhen

País/Región:china

Persona de contacto:MrEric

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China Sistema de filtro de agua industrial fácil de instalar Sistema de agua ultrapura de 90 t/h wholesale

Sistema de filtro de agua industrial fácil de instalar Sistema de agua ultrapura de 90 t/h

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Lugar de origen :Shenzhen, China

Cantidad mínima de pedido :> 1 conjunto

Payment Terms :L/C, D/P, T/T, Western Union

Capacidad de suministro :>300 juegos/mes

Tiempo de entrega :1-7 días hábiles (depende de la cantidad de materias primas)

Detalles del Embalaje :Casilla de madera estándar de exportación

Calidad del agua :Resistencia ≥18,24 MΩ·cm

Tasa de flujo :Se trata de una medida de la capacidad de producción.

Proceso básico :Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido

Componentes claves :Módulos de membrana RO, unidades EDI

Suministro de electricidad :El valor de las emisiones de CO2

Servicio postventa :garantía de dos años

Modo de funcionamiento :Totalmente automático

Características del producto :Calidad del agua estable, bajo coste de operación, rendimiento fiable

Desalación :990,5%

Capacidad de producción :<0.1 ppb

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Sistema de filtro de agua industrial fácil de instalar Sistema de agua ultrapura de 90 t/h para la preparación de productos químicos de grado electrónico

I. Resumen general
El agua ultrapura es una materia prima indispensable en la preparación de productos químicos de grado electrónico (como soluciones de grabado de alta pureza, fotoresistentes y suspensiones CMP).Su pureza afecta directamente al control de las impurezas metálicas, la distribución del tamaño de las partículas y la estabilidad del lote en productos químicos electrónicos.
En la preparación de materiales de calidad electrónicalas sustancias químicas,el agua ultrapura no es sólo un disolvente sino también un entorno de reacción limpio a nivel molecular (purificación extrema, sistema antipolución, motor de alto rendimiento).

II. Proceso

Agua cruda → Tratamiento previo:UF + ablandamiento → RE primario → RE secundario → desgasificación por membrana→ EDI → UV + degradación TOC → lecho mixto de ultra-precisión(resina nuclear de grado) → ultrafiltración terminal(0.01 μm)→ Nitrógeno - Circulación sellada

III. Parámetros límite de agua ultrapura (norma SEMI C63)

Parámetro			Requisito estándar
Resistencia (25°C)			≥ 18,24 MΩ·cm
Capacidad de producción			El valor de la reducción de los residuos
Oxígeno disuelto (DO)			Se trata de un producto que se utiliza para la fabricación de productos químicos
Las partículas (≥ 0,05 μm)			< 0,5 partículas/ml
Metales en huella
- Na+/K+			≤ 0,01 ppt
- Fe/Cu/Ni			≤ 0,02 ppt
- ¿ Qué?			≤ 0,005 ppt
Aniones (Cl−/SO42−)			≤ 0,01 ppt

IV. Escenarios de aplicación
Productos químicos electrónicos húmedos (ácido fluorhídrico, agua de amoníaco)
Materiales de litografía (fotoresistente de EUV, desarrollador)
Esmerile de pulido CMP (esmerile de dióxido de silicio/óxido de cerio)
Solución de galvanoplastia (solución de galvanoplastia)

V. Aquí hay una guía para obtener una cotización adecuada
Indique el agua cruda/fuente de agua ((agua de grifo, agua de pozo o agua de mar, etc.)
Proporcionar un informe de análisis del agua ((TDS, conductividad o resistividad, etc.)
Capacidad de producción requerida ((5m3/h, 50m3/h, o 500m3/h, etc.)
¿Para qué se utiliza el agua pura?

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