Suzhou Haichuan Rare Metal Products Co., Ltd.

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Fábrica de suministro directo 99,95% Platino objetivo de pulverización Platino Pt objetivo de pulverización

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Suzhou Haichuan Rare Metal Products Co., Ltd.
Ciudad:suzhou
País/Región:china
Persona de contacto:MrXu
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Fábrica de suministro directo 99,95% Platino objetivo de pulverización Platino Pt objetivo de pulverización

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Número de modelo :19
Lugar de origen :Jiangsu, China
Cantidad mínima de pedido :10 kg de peso
Condiciones de pago :Las condiciones de los productos incluidos en el presente Reglamento son las siguientes:
Capacidad de suministro :10 toneladas al mes
Tiempo de entrega :Entre 10 y 15 días
Detalles del embalaje :Caja de madera
El material :Platino
Forma de las piezas :aduana, ronda
Aplicación :Industria
Composición química :Platino
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Suministro directo de fábrica 99.95% Platino objetivo, Platino Pt objetivo de pulverización

Un objetivo de pulverización de platino es un material en forma de disco hecho de metal de platino de alta pureza y se utiliza en un proceso llamado pulverización.que eliminan los átomos de la superficie de destino y los depositan en un sustrato para crear una película delgada.

 

El elemento de impureza ((%)
Pt.
Ru
RH
¿Qué es?
¿Qué es?
Ag
Cu
Fe
¿ Qué?
0.02
0.02
0.02
0.01
0.01
0.005
0.005
0.005
0.005
- ¿ Qué?
Pb
En
En el caso de los productos
No
Sí, sí.
El Zn
- ¿ Por qué?
 
0.005
0.003
0.005
0.005
0.005
0.005
0.005
0.005

 

Fábrica de suministro directo 99,95% Platino objetivo de pulverización Platino Pt objetivo de pulverización

Características:

Alta pureza: los objetivos de pulverización de platino están hechos de metal de platino de alta pureza, generalmente 99,99% o más, para garantizar la más alta calidad y consistencia de la película delgada depositada.

Tamaño y forma personalizables: Los objetivos de pulverización de platino están disponibles en varios tamaños y formas, incluidos redondos, rectangulares y anulares, para satisfacer los requisitos específicos del proceso de pulverización.

Buena conductividad térmica y eléctrica: los objetivos de pulverización de platino tienen una excelente conductividad térmica y eléctrica, lo que los hace adecuados para una variedad de aplicaciones.

Alto punto de fusión: El platino tiene un alto punto de fusión de 1772 °C, por lo que es adecuado para aplicaciones de pulverización a altas temperaturas.

 

Aplicaciones:

Industria de semiconductores: los objetivos de pulverización de platino se utilizan en la industria de semiconductores para depositar películas finas de platino y materiales a base de platino para circuitos integrados, microprocesadores,y otros componentes electrónicos.

Industria de la energía solar: los objetivos de pulverización de platino se utilizan en la industria de la energía solar para depositar películas delgadas de platino y materiales a base de platino para células solares y otros dispositivos fotovoltaicos.

Revestimientos ópticos: los objetivos de pulverización de platino se utilizan en la producción de recubrimientos ópticos, incluidos los recubrimientos antirreflectores, los recubrimientos reflectantes y los filtros.

Dispositivos médicos: Los objetivos de pulverización de platino se utilizan en la producción de dispositivos médicos, incluidos marcapasos, implantes dentales y stents.

Industria aeroespacial:Los objetivos de pulverización de platino se utilizan en la industria aeroespacial para depositar recubrimientos en las palas de las turbinas y otros componentes de alta temperatura para mejorar su rendimiento y durabilidad.

 

 

99.95% objetivo de pulverización de platino
Dispersión de platino objetivo
PT platino objetivo odm

Carro de la investigación 0