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SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD

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Casa / Productos / Semiconductor Equipment / Horno automático de recocido rápido de semiconductores de doble cavidad compatible con equipos de tratamiento térmico de obleas de 6 pulgadas 8 pulgadas 12 pulgadas 200-1300 °C /

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Sic substrato

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Zafiro Windows óptico

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El alambre vio la máquina

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Zafiro sintético Rod

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Placa del cuarzo fundido

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Piezas del zafiro

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Piedra preciosa sintética

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Equipo del semiconductor

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Oblea LiNbO3

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Oblea del fosfuro de indio

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substrato de cerámica

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Envoltura del laboratorio

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Oblea del nitruro del galio

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Horno automático de recocido rápido de semiconductores de doble cavidad compatible con equipos de tratamiento térmico de obleas de 6 pulgadas 8 pulgadas 12 pulgadas 200-1300 °C
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