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Casa / Productos / Semiconductor Equipment / Horno automático de recocido rápido de semiconductores de doble cavidad compatible con equipos de tratamiento térmico de obleas de 6 pulgadas 8 pulgadas 12 pulgadas 200-1300 °C /

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Horno automático de recocido rápido de semiconductores de doble cavidad compatible con equipos de tratamiento térmico de obleas de 6 pulgadas 8 pulgadas 12 pulgadas 200-1300 °C
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