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4'' 5'' SiO2 Chips de IC de cristal único Método CZ 500um 1mm Capa de oxidación 500nm 2μM

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4'' 5'' SiO2 Chips de IC de cristal único Método CZ 500um 1mm Capa de oxidación 500nm 2μM

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Número de modelo :Chips de SiO2
Lugar de origen :China.
Cantidad mínima de pedido :25pcs
Condiciones de pago :T/T
Tiempo de entrega :en 30 días
Detalles del embalaje :caja modificada para requisitos particulares
el material :Chips de SiO2
Diámetro :4'5'
El grosor :500 mm y 1 mm
orientación :111
TTV :5um
deformación :5um
arco :5um
Ra :0.2nm
Aplicación :Oferta de IC
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4' 5' SiO2 Single Crystal IC Chips Método CZ 500um 1mm Capa de oxidación 500nm 2μm

Descripción:

El silicio monocristalino es un elemento no metálico más activo, es una parte importante de los materiales cristalinos, en la vanguardia del desarrollo de nuevos materiales.Su uso principal es como material de semiconductores y el uso de la generación de energía solar fotovoltaicaPorque la energía solar tiene muchas ventajas como limpia, protección ambiental y conveniencia, en los últimos 30 años,La tecnología de utilización de energía solar ha logrado un gran progreso en investigación y desarrollo, la producción comercial y el desarrollo del mercado, y se ha convertido en una de las industrias emergentes de rápido y estable desarrollo en el mundo.La oblea de silicio monocristalino es una varilla de silicio monocristalino cortada a través de una serie de procesos, los métodos de preparación del silicio monocristalino incluyen el método CZ (método CZ), el método de fusión en zona (método FZ) y el método de epitaxia,con un contenido de nitrógeno en peso superior o igual a 10%, pero no superior o igual a 50%La mayor demanda de cristales simples de silicio fusionados en zona proviene de dispositivos de semiconductores de potencia.

Características:

La sílice se puede dividir en sílice natural y sílice sintética, dos categorías.La sílice natural es principalmente polvo ultrafino formado por mineral de silicio de alto grado mediante molienda mecánica y otros métodos físicosLa sílice sintética es un material amorfo en polvo de óxido de silicio sintético, aunque su estructura y negro de carbono son diferentes.pero el rendimiento de aplicación es similar al negro de carbonoLa sílice sintética es normalmente polvo floculante blanco, con propiedades físicas de resistencia a altas temperaturas,no inflamables, no tóxico, insípido, con buen aislamiento eléctrico, tan ampliamente utilizado en caucho, plásticos, recubrimientos, adhesivos, selladores, materiales de aislamiento térmico y otros campos.La sílice sintética se divide principalmente en sílice fumada y sílice en fase líquida, y la sílice en fase líquida se puede dividir en sílice precipitada y sílice de gel.

Parámetros técnicos:

Las partidas Parámetros
Densidad 2.5 g/cm3
Punto de fusión 1700 °C
Punto de ebullición 2330°C
Indice de refracción 1.8
Mol. wt 61.080
Apariencia gris claro
Solubilidad No soluble
Punto de sinterización 880°C a 1490°C
Método de preparación oxidación seca/húmeda
La velocidad warp. 5um
- ¿ Por qué? 5um
TTV 5um
Orientación 111
Ra 0.3nm
Resistividad 0.001-50 ((Ω•cm)
Las normas de seguridad ± 0,4 mm
El tipo Tipo N; tipo P
Pulido DSP de la SSP

Aplicaciones:

SiO2 industrial se llama negro de carbono blanco, es ligero y es un polvo ultra fino.y sus campos de aplicación son muy ampliosEn la actualidad, los métodos de preparación de sílice incluyen principalmente: el método de fase gaseosa, el método de precipitación, el método de síntesis hidrotérmica, el método de extracción y el método de extracción.método de reacción por microemulsión, el método de destilación por azeotropo y el método de reacción por hipergravedad.

1- Fabricación de vidrio, vidrio de cuarzo, vidrio de agua, fibra óptica, piezas de la industria electrónica, instrumentos ópticos, artesanías y materiales refractarios.

2.Se puede utilizar para el polvo de huevo, el azúcar en polvo, el polvo de leche, el polvo de cacao, la mantequilla de cacao, el polvo de plantas, el café instantáneo, el polvo de sopa, etc.

3Cuando el cristal de sílice es perfecto, es cristalino; el gel de sílice después de la deshidratación es ágata; cuando el grano de sílice es inferior a unos pocos micras, se compone de calcedonia, chert y cuarcita secundaria.

4'' 5'' SiO2 Chips de IC de cristal único Método CZ 500um 1mm Capa de oxidación 500nm 2μM

Otros productos:

Wafer SIC:

4'' 5'' SiO2 Chips de IC de cristal único Método CZ 500um 1mm Capa de oxidación 500nm 2μM

Preguntas frecuentes:

P: ¿Cuál es el nombre de marca deSiO2 cristal único?

A: El nombre de marca deSiO2 cristal únicoes ZMSH.

P: ¿Qué es la certificación de¿SiO2 de cristal único?

A: La certificación deSiO2 cristal únicoes ROHS.

P: ¿Cuál es el lugar de origen deSiO2 cristal único?

A: El lugar de origen deSiO2 cristal únicoes China.

P: ¿Cuál es el MOQ deSiO2 de cristal único a la vez?

R: El MOQ deSiO2 cristal únicoes 25 piezas a la vez.

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