6'8' Ultra grueso SiO2 10um 20um 25um Seco y húmedo de la capa de óxido 0.1μm 25μm
Descripción:
El óxido de silicio es un compuesto compuesto de silicio y oxígeno que tiene muchas formas y usos.que es una capa de óxido natural formada por la reacción del silicio con moléculas de oxígeno o aguaEl óxido de silicio también se puede obtener por reacción a alta temperatura o método de sublimación, hay cristales o polvos blancos o marrones, insolubles en agua,puede disolverse en solución de ácido fluorhídrico o alcalino, tiene una fuerte reducibilidad, a menudo utilizada en la preparación de vidrio óptico y materiales semiconductores.
Características:
El dióxido de silicio es un compuesto inorgánico con la fórmula química SiO2. Los átomos de silicio y los átomos de oxígeno están dispuestos en un orden de largo alcance para formar dióxido de silicio cristalino,y orden de corto alcance o orden desordenado de largo alcance para formar dióxido de silicio amorfoLa forma más simple de dióxido de silicio es SiO2, pero SiO2 no representa una molécula simple (sólo la relación del número de átomos de silicio y oxígeno en el cristal de dióxido de silicio).Cristales de sílice natural puro, es un sólido transparente incoloro, duro, quebradizo e insoluble, a menudo utilizado en la fabricación de instrumentos ópticos.
Parámetros:
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Las partidas
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Parámetros
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| Diámetro |
6'8' |
| El grosor |
10um 20um 25um |
| El color |
Transparente, gris |
| Método |
Oxidación húmeda seca |
| Orientación |
100, 111 |
| espesor de la capa |
0.1um 25um |
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Densidad
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2.2 g/cm3
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Punto de fusión
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1723°C
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Punto de ebullición
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2230°C
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Indice de refracción
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1.6
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Mol. wt
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60.084
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Apariencia
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sólido transparente
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Solubilidad
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Insoluble en agua
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Punto de sinterización
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800 °C a 1450 °C
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La velocidad warp.
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10um
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- ¿ Por qué?
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10um
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TTV
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10um
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Orientación
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100, 111
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Aplicación:
El dióxido de silicio en sí mismo también se puede utilizar como aislante y material dieléctrico en condensadores de circuitos integrados, el papel principal es el aislamiento, en el proceso de fabricación de circuitos,puede prevenir la difusión de impurezas, en transistores y circuitos integrados, utilizados como película de enmascaramiento y capa protectora para la difusión de impurezas.por lo general es necesario para conectar finalmente los diodos dispersos, audiodos, resistencias y otros componentes con bandas de aluminio, y los lugares que no necesitan ser conectados pueden ser cubiertos con sílice.La sílice también se puede utilizar para hacer fibras ópticas para transportar información a largas distancias.
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Preguntas frecuentes:
P: ¿Cuál es el nombre de marca deSiO2 cristal único?
A: El nombre de marca deSiO2 cristal únicoes ZMSH.
P: ¿Qué es la certificación de¿SiO2 de cristal único?
A: La certificación deSiO2 cristal únicoes ROHS.
P: ¿Cuál es el lugar de origen deSiO2 cristal único?
A: El lugar de origen deSiO2 cristal únicoes China.
P: ¿Cuál es el MOQ deSiO2 de cristal único a la vez?
R: El MOQ deSiO2 cristal únicoes 25 piezas a la vez.
