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Grueso de GaN Wafer 350um del nitruro del galio de la exhibición de la proyección del laser

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Ciudad:shanghai
Provincia / Estado:shanghai
País/Región:china
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Grueso de GaN Wafer 350um del nitruro del galio de la exhibición de la proyección del laser

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Número de modelo :GaN-2INCH
Lugar del origen :China
Cantidad de orden mínima :1PC
Condiciones de pago :L / C, T / T
Plazo de expedición :2-4 semanas
Detalles de empaquetado :sola caja de la oblea en sitio de limpieza de 100 grados
Material :Solo cristal de GaN
Método :HVPE
Tamaño :2inch
Grueso :330um
Industria :LD, llevado, dispositivo del laser, detector,
Color :Blanco
PAQUETE :solo paquete de la caja del casete de la oblea por la condición del vacío
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substratos libres de 2inch GaN, oblea para el LD, oblea semiconductora de GaN del nitruro del galio para llevado, plantilla de GaN, substratos de 10x10m m GaN, oblea nativa de GaN,

  1. III-nitruro (GaN, AlN, mesón)

Cubierta prohibida del ancho de banda (luminescente y absorción) el ultravioleta, la luz visible y el infrarrojo.

Grueso de GaN Wafer 350um del nitruro del galio de la exhibición de la proyección del laserGrueso de GaN Wafer 350um del nitruro del galio de la exhibición de la proyección del laser

GaN se puede utilizar en muchas áreas tales como pantalla LED, detección de alta energía y proyección de imagen,

Exhibición de la proyección del laser, dispositivo de poder, etc.

Grueso de GaN Wafer 350um del nitruro del galio de la exhibición de la proyección del laser

Especificaciones:

Artículo GAN-FS-n
Dimensiones ± 1m m de Ф 50.8m m
Densidad del defecto de Marco Un nivel ≤ 2 cm-2
Nivel de B > 2 cm-2
Grueso 300 µm del ± 25
Orientación ± 0.5° de C-AXIS (0001)
Orientación plana ± 0.5°, (de 1-100) ± 16,0 1.0m m
Orientación secundaria plana ± 3°, 8,0 ± 1.0m m (de 11-20)
TTV (variación total del grueso) µm ≤15
ARCO µm ≤20
Tipo de la conducción N-tipo
Resistencia (300K) < 0="">
Densidad de dislocación Menos que 5x106 cm-2
Superficie usable > el 90%
Polaco

Superficie delantera: Ra < 0="">

Superficie trasera: Tierra fina

Paquete Empaquetado en un ambiente del sitio limpio de la clase 100, en solos envases de la oblea, bajo atmósfera del nitrógeno.

2. Nuestra empresa Vision

proporcionaremos el substrato de alta calidad de GaN y la tecnología del uso para la industria.

GaNmaterial de alta calidad es el factor de refrenamiento para el uso de los III-nitruros, e.g larga vida

y alta estabilidad LDs, poder más elevado y altos dispositivos de la microonda de la confiabilidad, alto brillo

y eficacia alta, LED ahorro de energía.

Grueso de GaN Wafer 350um del nitruro del galio de la exhibición de la proyección del laser

- FAQ –
Q: ¿Qué usted puede suministrar logística y coste?
(1) aceptamos DHL, Fedex, TNT, UPS, el ccsme, SF y el etc.
(2) si usted tiene su propio número expreso, es grande.
Si no, podríamos ayudarle para entregar. Freight=USD25.0 (el primer peso) + USD12.0/kg

Q: ¿Cuál es plazo de expedición?
(1) para los productos estándar tales como oblea de 2inch 0.33m m.
Para el inventario: la entrega es 5 días laborables después de orden.
Para los productos modificados para requisitos particulares: la entrega es 2 o 3 workweeks después de orden.

Q: ¿Cómo pagar?
100%T/T, Paypal, unión del oeste, MoneyGram, pago seguro y garantía del comercio.

Q: ¿Cuál es el MOQ?
(1) para el inventario, el MOQ es 1pcs.
(2) para los productos modificados para requisitos particulares, el MOQ es 5pcs-10pcs.
Depende de cantidad y de técnicas.

Q: ¿Usted tiene informe de inspección para el material?
Podemos suministrar los informes del informe y del alcance de ROHS para nuestros productos.

Carro de la investigación 0