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2"/3"/4"/5"/6"/8"/12" tipo de la oblea de silicio P/boro, tipo de N/Phos, N Type/As, N Type/Sb
dispositivos de 2 pulgadas de la oblea de silicio MEMS, circuitos integrados, substratos dedicados para los dispositivos discretos
Descripción
La oblea de silicio puede ser n-tipo o p-tipo para la anodización. En primer lugar, las obleas de silicio son limpiadas por los diversos solventes del alcohol en un limpiador ultrasónico para obtener el silicio poroso puro. Los solventes usados son generalmente acetona, isopropanol, y agua desionizada.
Los investigadores quieren generalmente quitar la capa nativa del óxido antes de la anodización del silicio. El HF diluido se puede utilizar para quitar una capa nativa del óxido que forme naturalmente en la superficie en la temperatura ambiente después de fabricar.
Especificación
| oblea de silicio | |
|
Diámetro
|
2"/3"/4"/5"/6"/8"/12" |
| Grado | Primero |
| Método del crecimiento | CZ |
| Orientación | <1-0-0><1-1-1>,<1-1-0> |
| Tipo/dopante | Tipo de P/boro, tipo de N/Phos, N Type/As, N Type/Sb |
| Grueso (μm) | 279/380/525/625/675/725/775 |
| Tolerancia del grueso | ± estándar los 25μm, ± máximo los 5μm de Capabilit/IES |
| Resistencia | 0.001-100 ohmio-cm |
| Superficial acabado | P/E, P/P, E/E, G/G |
| TTV (μm) | Estándar <10> |
| Arco/deformación | Estándar <40> |
| Partícula | <10> |
Sobre nosotros
Nos especializamos en el proceso de una variedad de materiales en las obleas, los substratos y parts.components de cristal óptico modificado para requisitos particulares ampliamente utilizados en electrónica, la óptica, la electrónica opta y muchos otros campos. También hemos estado trabajando de cerca con muchos nacionales y las universidades, las instituciones de investigación y las compañías de ultramar, proporcionan productos modificados para requisitos particulares y los servicios para sus proyectos del R&D. Es nuestra visión a mantener una buena relación de la cooperación con nuestros todos los clientes por nuestras buenas reputaciones.
FAQ
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