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Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

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Casa / Productos / Rapid Thermal Annealing System / Procesamiento térmico rápido para aumentar la producción Sistema de recocido RTP-SA-8 /

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GaN Epitaxial Wafer

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Oblea sic epitaxial

 [33]

Oblea Epi GaAs

 [15]

Sustratos de diamante CVD

 [15]

Sistema de recocido térmico rápido

 [2]

Probador de sensores de efecto Hall

 [3]

Oblea del nitruro de aluminio

 [21]

Microprocesador del diodo láser

 [10]

Cristal del carburo de silicio

 [12]

Oblea Ga2O3

 [13]

oblea de silicio

 [26]

Sapphire Wafer

 [19]

Sapphire Substrates modelada

 [10]

Tenedor de la oblea del

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Cortadora de obleas

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Procesamiento térmico rápido para aumentar la producción Sistema de recocido RTP-SA-8
Procesamiento térmico rápido para aumentar la producción Sistema de recocido RTP-SA-8
  • Procesamiento térmico rápido para aumentar la producción Sistema de recocido RTP-SA-8
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1Configuración básica del sistema de equipos 1.1cuadro general El procesamiento térmico rápido es un horno de recocido rápido de obleas de 8 pulgadas ...
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