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Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

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Casa / Productos / Rapid Thermal Annealing System / sistema de recocido termal rápido de 150m m con tres gases de proceso de los sistemas /

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GaN Epitaxial Wafer

 [68]

Oblea sic epitaxial

 [33]

Oblea Epi GaAs

 [15]

Sustratos de diamante CVD

 [15]

Sistema de recocido térmico rápido

 [2]

Probador de sensores de efecto Hall

 [3]

Oblea del nitruro de aluminio

 [21]

Microprocesador del diodo láser

 [10]

Cristal del carburo de silicio

 [12]

Oblea Ga2O3

 [13]

oblea de silicio

 [26]

Sapphire Wafer

 [19]

Sapphire Substrates modelada

 [10]

Tenedor de la oblea del

 [1]

Cortadora de obleas

 [5]
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sistema de recocido termal rápido de 150m m con tres gases de proceso de los sistemas
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Sistema de recocido termal rápido de RTP-150RL con tres gases de proceso de los sistemas RTP-150RL: Está en la atmósfera de la protección del sistema ...
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proceso de recocido mediante tratamiento térmico horno de recocido de dos cámaras horno de recocido de dos cámaras

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