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Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

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Casa / Productos / SiC Epitaxial Wafer / CMP polaco óptico de la Si-cara de la C-cara sic epitaxial de la oblea del solo cristal /

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Categorías de Producto

GaN Epitaxial Wafer

 [68]

Oblea sic epitaxial

 [33]

Oblea Epi GaAs

 [15]

Sustratos de diamante CVD

 [15]

Sistema de recocido térmico rápido

 [2]

Probador de sensores de efecto Hall

 [3]

Oblea del nitruro de aluminio

 [21]

Microprocesador del diodo láser

 [10]

Cristal del carburo de silicio

 [12]

Oblea Ga2O3

 [13]

oblea de silicio

 [26]

Sapphire Wafer

 [19]

Sapphire Substrates modelada

 [10]

Tenedor de la oblea del

 [1]

Cortadora de obleas

 [5]
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Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.
Ciudad:shanghai
Provincia / Estado:shanghai
País/Región:china
Persona de contacto:Xiwen Bai (Ciel)
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CMP polaco óptico de la Si-cara de la C-cara sic epitaxial de la oblea del solo cristal
CMP polaco óptico de la Si-cara de la C-cara sic epitaxial de la oblea del solo cristal
  • CMP polaco óptico de la Si-cara de la C-cara sic epitaxial de la oblea del solo cristal
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C-cara sic epitaxial de la oblea JDCD03-001-004: Polaco óptico, Si-cara: CMP Descripción Implica el crecimiento de cristales de un material en la cara ...
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vidrio para el pulido de bordes Compuesto para pulir vidrio con óxido de cerio ¿Se puede grabar el vidrio templado?

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