Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

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Casa / Productos / SiC Epitaxial Wafer / 4 pulgadas de 4H-SiC Substrato P-Nivel SI 500.0±25.0μM MPD≤0.3/Cm2 Resistencia≥1E9Ω·Cm para microondas de potencia /

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Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.
Ciudad:shanghai
Provincia / Estado:shanghai
País/Región:china
Persona de contacto:Xiwen Bai (Ciel)
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4 pulgadas de 4H-SiC Substrato P-Nivel SI 500.0±25.0μM MPD≤0.3/Cm2 Resistencia≥1E9Ω·Cm para microondas de potencia

4 pulgadas de 4H-SiC Substrato P-Nivel SI 500.0±25.0μM MPD≤0.3/Cm2 Resistencia≥1E9Ω·Cm para microondas de potencia
  • 4 pulgadas de 4H-SiC Substrato P-Nivel SI 500.0±25.0μM MPD≤0.3/Cm2 Resistencia≥1E9Ω·Cm para microondas de potencia
Productos detallados
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