Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

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País/Región:china
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N-tipo sin impurificar GaN Single Crystal Substrate Resistivity libre de la M-cara 5*10mm2 < 0,05 Ω·dispositivo de poder del cm/laser

N-tipo sin impurificar GaN Single Crystal Substrate Resistivity libre de la M-cara 5*10mm2 < 0,05 Ω·dispositivo de poder del cm/laser
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n-tipo sin impurificar sola resistencia cristalina libre de la M-cara 5*10mm2 del substrato de GaN < 0=""> Descripción Estas obleas de GaN realizan ...
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