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Sistema de depósito por pulverización catódica del magnetrón de Al2O3 TiO2 para el tratamiento médico

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Ciudad:chengdu
Provincia / Estado:sichuan
País/Región:china
Persona de contacto:MsTyra
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Sistema de depósito por pulverización catódica del magnetrón de Al2O3 TiO2 para el tratamiento médico

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Número de modelo :MSC-MT-X—X
Lugar de origen :Chengdu, P. R. CHINA
Cantidad mínima de pedido :1 juego
Términos de pago :T/T
Capacidad de suministro :Caso por caso
El tiempo de entrega :Caso por caso
detalles del empaque :caja de madera
Peso :personalizable
Tamaño :personalizable
personalizable :Disponible
Período de garantía :1 año o caso por caso
Condiciones de envío :Por Mar / Aire / Transporte Multimodal
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Deposición por pulverización catódica de magnetrón en la industria del tratamiento médico


Aplicaciones

Aplicaciones Propósito específico tipo de material
Tratamiento médico Materiales biocompatibles Alabama2O3, TiO2


Principio de funcionamiento
El principio básico de la pulverización catódica con magnetrón es que los electrones chocan con los átomos de argón en el proceso de volar a

lasustrato bajo la acción del campo eléctrico, los iones de argón producidos bombardean la superficie objetivo.Después de la energía

intercambio,los átomos en la superficie objetivo escapan de la red originaly se transfieren al sustrato

superficie para formar películas.

Características

Modelo MSC-MT-X—X
tipo de recubrimiento Varias películas dieléctricas como película metálica, óxido metálico y AIN
Rango de temperatura de recubrimiento Temperatura normal a 500 ℃
vacío de recubrimientocámara size 700 mm * 750 mm * 700 mm (personalizable)
Vacío de fondo <5×10-7mbar
Espesor de recubrimiento ≥ 10nm
Precisión de control de espesor ≤ ±3%
Tamaño máximo de recubrimiento ≥ 100 mm (personalizable)
Uniformidad del espesor de la película ≤ ±0,5 %
Portador de sustrato Con mecanismo de rotación planetario
material objetivo 4×4 pulgadas (compatible con 4 pulgadas y menos)
Fuente de alimentación Las fuentes de alimentación como CC, pulso, RF, IF y polarización son opcionales
gas de proceso AR, N2, oh2
Nota: Producción personalizada disponible.


Muestra de recubrimiento

Sistema de depósito por pulverización catódica del magnetrón de Al2O3 TiO2 para el tratamiento médico

Los pasos del proceso
→ Coloque el sustrato para recubrir en la cámara de vacío;
→ Aspire aproximadamente;
→ Encienda la bomba molecular, aspire a máxima velocidad, luego encienda la revolución y la rotación;
→ Calentar la cámara de vacío hasta que la temperatura alcance el objetivo;
→ Implementar el control de temperatura constante;
→ Elementos limpios;
→ Girar y volver al origen;
→ Película de recubrimiento según los requisitos del proceso;
→ Baje la temperatura y detenga el conjunto de la bomba después del recubrimiento;
→ Deja de funcionar cuando finaliza la operación automática;


Nuestras ventajas
Somos fabricante.
Proceso maduro.
Responder dentro de las 24 horas hábiles.


Nuestra Certificación ISO
Sistema de depósito por pulverización catódica del magnetrón de Al2O3 TiO2 para el tratamiento médico

Partes de nuestras patentes
Sistema de depósito por pulverización catódica del magnetrón de Al2O3 TiO2 para el tratamiento médicoSistema de depósito por pulverización catódica del magnetrón de Al2O3 TiO2 para el tratamiento médico

Partes de nuestros premios y calificaciones de I + D
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