Equipo de Balling del polvo del plasma de la radiofrecuencia
Descripción
La antorcha de plasma de la radiofrecuencia posee la densidad de alta energía, fuerza fuerte de la calefacción, y su arco de plasma es enorme. Debido a ningunos electrodos disponibles, no puede generar la contaminación a los productos causados por la evaporación del electrodo.
El principio de tecnología de Balling del polvo del plasma de la radiofrecuencia se refiere que el gas inerte (como el argón) está ionizado bajo efecto de la fuente de alimentación de alta frecuencia y formado como plasma da alta temperatura estable del gas inerte; y el polvo crudo irregular es rociado por el gas portador (nitrógeno) en el plasma a través del dispositivo de alimentación del polvo, y estas partículas del polvo absorben una gran cantidad de calor en plasma da alta temperatura y sus superficies se derriten rápidamente; entonces éstos polvo derretido son enviados en el dispositivo de la reacción por el enfriamiento extremadamente de alta velocidad, y rápido bajo ambiente del gas inerte. Por lo tanto, se enfrían y son solidificados en polvo esférico por la tensión de superficie; además, se envían en el material que recolecta el sitio.
Características
- Alta temperatura de calefacción, velocidad de enfriamiento rápida, ninguna contaminación del electrodo;
- Los materiales de la reacción se dispersan dinámicamente en antorcha de plasma, de esta manera puede evitar la acumulación y el crecimiento de polvos, y se aplica a la fusión y a Balling de las partículas del polvo;
- Conveniente para producir el tungsteno, el molibdeno, el Ti, el W, el WC, el óxido de aluminio, el óxido de silicio, el óxido de circonio y el otro metal y polvo refractarios del óxido
- Forma regular, alto spheroidization, superficie lisa y buena fluidez; y la densidad del polvo y densidad a granel creciente
Tecnología de la estructura de módulo de la base
El polvo de Balling de la antorcha de plasma de la radiofrecuencia que produce el equipo se construye con el siguiente de siete componentes y de componentes periféricos:
- Antorcha de plasma de la radiofrecuencia;
- Fuente de alimentación del plasma de la radiofrecuencia;
- Abastecimiento del gas y sistema de alimentación del polvo;
- Sitio de la reacción, sitio de la colección y ayuda;
- Sistema de bombeo del vacío;
- Sistema el controlar eléctrico y de medición;
- Unidad del agua de enfriamiento.
