Shaper Diamond Technology Co., Ltd
Se trata de la empresa Shaper Diamond Technology Co., Ltd.
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| Atributo | Valor |
|---|---|
| Dureza (microdureza) | 80～150GPa |
| Módulo de Young | 1150～1300GPa |
| Coeficiente de fricción | 0.05~0.05 |
| Coeficiente de expansión térmica | 10-.K-l |
| Conductividad térmica | 1500-2000 w/(m·K) |
| Contenido de nitrógeno | <50ppm |
| Color | Incoloro |
| Proceso de crecimiento de cristal | CVD |
El diamante de cristal único CVD (deposición química de vapor) se produce utilizando el proceso CVD, donde los gases que contienen carbono se descomponen en condiciones controladas, formando una capa de diamante de cristal único sobre un sustrato.
Producido mediante deposición química de vapor asistida por plasma de microondas (MPACVD), donde la resonancia de microondas descompone el gas que contiene carbono para generar plasma, lo que permite el crecimiento homoepitaxial en las direcciones 100, 110 y 111 de los cristales semilla de diamante tipo IIb.
De 3x3x0,3 mm a 15x15x0,3 mm en varios incrementos
