Tejido Plano de Fibra de Carbono: Diseñado con Precisión para Entornos Extremos
Atributos del Producto
Atributo |
Valor |
Grado |
T300/T700 |
Estructura del Tejido |
Plano |
Densidad Areal (g/m²) |
Hecho a medida |
Tiempo de Humectación de la Resina |
≤20s /≤25s/≤30s |
Tipo de Tejido |
Plano |
Conductividad Eléctrica |
Baja |
Introducción y Características del Producto
El tejido plano de fibra de carbono de alta resistencia es un material compuesto de vanguardia diseñado para aplicaciones que exigen una integridad mecánica y estabilidad dimensional sin concesiones. Construido con fibras de carbono de alto módulo de 12K dispuestas en un patrón de tejido plano estrictamente controlado, este tejido ofrece propiedades de resistencia isotrópicas y una resistencia excepcional a la distorsión térmica.
- Resistencia a la Tracción Ultra-Alta: Alcanza una resistencia longitudinal de 4.500 MPa con una elongación del 0,8% a la rotura.
- Estabilidad Térmica: Mantiene la integridad estructural desde -269°C (helio líquido) hasta 300°C.
- Blindaje contra Interferencias Electromagnéticas: Proporciona una atenuación de 40 dB en entornos propensos a EMI.
- Compatibilidad con Resinas Híbridas: Admite resinas epoxi, éster cianato y poliimida para un rendimiento a medida.
- Producción Sostenible: El 40% de contenido de fibra de carbono reciclada cumple con los estándares de la economía circular.
Proceso de Fabricación
Etapa |
Especificaciones Técnicas |
Procesamiento del Precursor |
Las fibras precursoras basadas en PAN se someten a estabilización (250°C) y carbonización (1.800°C) en gas inerte. |
Automatización del Tejido |
Los telares controlados por computadora garantizan una precisión de alineación de ±0,1 mm en la configuración de tejido plano. |
Funcionalización de la Superficie |
La oxidación asistida por plasma (O₂/CF₄) mejora la adhesión de la resina en un 60%. |
Protocolo de Curado |
Curado térmico de dos etapas: curado de resina fenólica a 150°C + post-curado de poliimida a 220°C. |
Control de Calidad |
El escaneo óptico impulsado por IA detecta la desalineación de la fibra <0,05% en tiempo real. |
Precauciones de Uso
- Controles Ambientales: Almacenar en recipientes secos purgados con nitrógeno a 18-25°C para evitar la oxidación.
- Temperatura de Procesamiento: Ventana de curado crítica: 145-155°C para la fase fenólica; evitar >260°C para evitar la deslaminación.
- Precauciones Electroestáticas: Utilizar estaciones de trabajo conectadas a tierra y embalaje antiestático durante la manipulación.
- Resistencia Química: Compatible con epoxi, PEEK y fluoropolímeros; evitar el contacto con aminas o disolventes clorados.
- Manipulación Mecánica: Prohibir las curvas o pliegues pronunciados para evitar la rotura de las fibras.
Especificaciones Clave
Parámetro |
Grado Estándar |
Grado de Ultra Alta Temperatura |
Diámetro de la Fibra |
7-10 μm |
5-8 μm |
Resistencia a la Tracción |
4.500 MPa (longitudinal) |
5.200 MPa |
Conductividad Térmica |
20 W/m*K |
35 W/m*K |
Resistividad Eléctrica |
1,2×10⁻³ Ω*cm |
0,8×10⁻³ Ω*cm |
Absorción de Humedad |
<0,3% (24h/25°C) |
<0,05% |
Inflamabilidad |
UL94 V-0 |
UL94 V-0 |
Certificaciones |
ISO 9001, REACH, RoHS |
NASA-STD-6012, MIL-I-24768 |
Aplicaciones
- Aeroespacial: Conos de morro de vehículos hipersónicos, toberas de motores de cohetes reutilizables que requieren resistencia térmica/química.
- Sistemas de Energía: Tanques de almacenamiento de hidrógeno, placas bipolares de electrolizadores con blindaje EMI integrado.
- Electrónica: Radomos de estaciones base 5G, placas de circuito impreso flexibles para tecnología portátil.
- Defensa: Contramedidas de guerra electromagnética, blindaje de vehículos resistente a explosiones.
- Industrial: Revestimientos de reactores de plasma, portadores de obleas de semiconductores con muy baja particulación.
